HORIBA/堀場CS-620F光纖型高溫磷酸濃度計產品詳情：

在3D NAND制程中，沉積幾十層二氧化硅和氮化硅，并使用高溫磷酸選擇性地刻蝕氮化硅層。在該制程中，通過控制化學藥液的濃度和溫度，可以獲得期望的刻蝕速率。成熟型號很難測量高溫化學藥液，但CS-620F能夠在高達170℃的高溫下進行測量。使用吸收光譜進行連續(xù)測量，與其他方法相比，需要的維護和耗材更少。

產品特征

● 可測量達92%的高濃度磷酸。

● 無需冷卻機制和冷卻時間。

● 無需冷卻循環(huán)管路中的高溫磷酸（140 至 170℃），可直接測量。

● 樣品使用PFA接觸，以降低污染風險。

● 采用每半年一次的背景校正周期，有助于顯著減少機臺停機時間。

● 每3秒更新一次測量數據，有助于更快速使用濃度反饋進行控制。

穩(wěn)定性

?  測量結果樣品（實際藥液）測量1小時，展示出良好的穩(wěn)定性。

? 測量條件

測量周期：每3秒   測量時間：1 小時   移動平均數：16 次。

樣品濃度（初始樣品濃度）H3PO4：92.2% H2O: 7.8%   樣品溫度：141°C。

HORIBA/堀場CS-620F光纖型高溫磷酸濃度計產品參數：

更多推薦：

光纖型化學藥液濃度計 CS-600F

CS-600F 提供適合生產的更高級功能，如在各種應用中對高溫化學藥液進行在線測量的能力，減少停機時間的穩(wěn)定運行，以及提高空間生產率的緊湊尺寸，以滿足優(yōu)良半導體濕法制程所需的準確化學藥液濃度管理。

尺寸更小，布局更靈活

CS-600F 濃度計尺寸緊湊，與成熟型號（CS-100F1 系列）相比，高度降低 36%，體積減少 40%，樣品單元光纖電纜所需的空間減少 46%。光源單元和濃度計主機可以遠程單獨安裝，支持根據化學藥液單元和清洗設備的位置靈活安裝。

高溫化學溶液（20 至 80℃）的高穩(wěn)定性在線測量

新的光學系統(tǒng)和改進的處理算法支持在線測量高溫化學藥液，這是優(yōu)良濕法制程的關鍵一步。這消除了冷卻化學樣品的需要。HORIBA 的 CS-600F穩(wěn)定性高，實現了更有效和準確的化學藥液管理。

背景校正頻率顯著降低

與成熟型號（CS-100F1系列）相比，定期校正頻率顯著降低，這反過來又顯著減少了機臺停機時間，有助于提高產量。

單臺濃度計可測量多達六種化學藥液（藥液種類或濃度范圍）

單臺濃度計可測量多達六種化學藥液（藥液種類或濃度范圍）。可自由指定藥液類型和濃度范圍，CS-600F 保證滿足各種檢測要求。

可輸出多達六種組分的測量值（串行輸出）

成熟型號（CS-100F1 系列）可輸出四種組分的測量值（串行輸出）。CS-600F新型號能以串行輸出方式輸出多達六種組分的測量值。CS-600F型號模擬輸出四種組分，而CS-100F1型號為兩種。

產品參數：

• HF-960MHF/HCl/NH3濃度計
• CS-900非接觸式化學藥液濃度計